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　　当前全球光刻设备市场呈现“一超多强”的寡头格局。荷兰ASML凭借EUV(极紫外)光刻机的独家供应地位，占据高端市场绝对主导权，其最新机型套刻精度达1.1纳米，支撑台积电、三星、英特尔的3纳米制程量产。日本尼康与佳能则在中低端市场形成差异化竞争：尼康通过ArF干式DUV(深紫外)光刻机守住10%市场份额，佳能则以纳米压印技术(NIL)在存储芯片领域开辟新赛道，设备成本仅为EUV的1/5，分辨率可达2纳米。